Name: مصنعي مسحوق نتريد الفيروسيليكون الصيني ومورديه المصنع - صنع في الصين - ZHENAN
Brand: زينان
SKU: 235697046

الوصف

مسحوق نتريد الفيروسيليكون صنع في الصين

معلمات مسحوق نتريد الفيروسيليكون

N	سي	في	O	الكثافة الظاهرية
			أقل من أو يساوي	أكبر من أو يساوي
28-31	47-52	12-17	2	3.6
1. المنتجات مناسبة لصهر الفولاذ المقاوم للصدأ، وصهر السبائك الخاصة، والمواد الحرارية الخاصة، وصناعة الأسلحة، والصناعة الإلكترونية، وصناعة الصب، وما إلى ذلك. 2. يمكن تعديل المكونات وحجم الجسيمات وفقًا لاحتياجات المستخدم

مواصفات الحبيبات: كتلة طبيعية، 10-100مم، 10-60مم، 3-10مم، 1-3مم، 0-1مم، أو مخصصة وفقًا لمتطلبات العميل.

التعبئة والتغليف: طن من التعبئة والتغليف (1000 كجم / كيس) أو مخصصة وفقا لمتطلبات العملاء.

معرفة مسحوق نتريد السيليكون الفيرو

آفاق التطبيقنتريد الفيروسيليكونمسحوق: في الوقت الحاضر، تزداد سرعة وكثافة تكامل دوائر أشباه الموصلات تدريجيًا، وبالتالي يزداد حجم رقائق أشباه الموصلات تدريجيًا. بالإضافة إلى ذلك، لتوفير هياكل ربط متعددة الطبقات، يتم تصغير عرض الوصلات تدريجيًا ويصبح قطر الرقاقة أكبر.

ومع ذلك، مع زيادة كثافة تكامل الأجهزة وانخفاض الحد الأدنى لعرض الخط، يتم مواجهة القيود التي لا يمكن التغلب عليها باستخدام التسوية المحلية وفقًا للتقنيات ذات الصلة. لتحسين كفاءة المعالجة أو الجودة، يستخدم مسحوق نيتريد الفيروسيليكون التلميع الميكانيكي الكيميائي (CMP، التسوية الميكانيكية الكيميائية) لإجراء تسوية شاملة للرقاقة. تعد التسوية الشاملة باستخدام CMP جزءًا ضروريًا من معالجة الرقاقة الحالية.

التطبيقات المحددة لمسحوق نتريد الفيروسيليكون: تحتوي سوائل التلميع المستخدمة في معالجة CMP على جزيئات كاشطة مثل السيليكا أو أكسيد الألومنيوم أو أكسيد السيريوم، ويتم تصنيف معالجة CMP على نطاق واسع إلى أكسيد CMP وCMP معدني. عادةً ما يكون لعجائن التلميع لأكسيد CMP درجة حموضة 10-12، ولعجائن التلميع لـ CMP المعدني درجة حموضة حمضية تبلغ 4 أو أقل. تتضمن أدوات ضبط وسادة CMP التقليدية أدوات ضبط وسادة CMP مطلية بالكهرباء مصنوعة من معالجة الطلاء الكهربائي وأدوات ضبط وسادة CMP من النوع المصهور مصنوعة من أدوات ضبط وسادة CMP المصهورة ومسحوق نتريد الفيروسيليكون في درجات حرارة عالية.

ومع ذلك، فإن هذه المكيفات التقليدية من نوع الطلاء ونوع الذوبان من نوع CMP تعاني من مشاكل في الجوانب التالية. فعندما تستخدم للتعديل في الموقع في معالجة CMP المعدنية، تتأثر جزيئات الماس الملتصقة بسطح مكيف وسادة CMP باستخدام ملاط CMP. ويتسبب عمل التلميع لجزيئات التلميع والمحلول الحمضي في تآكل السطح ويصبح منفصلاً عن السطح. وعلاوة على ذلك، قد يكون الركيزة مصنوعًا من مادة سيراميكية مثل مسحوق نتريد الفيروسيليكون (Si3N4) أو السيليكون (Si). وتشمل الأمثلة الأخرى للمواد من الركيزة 10 أكسيد الألومنيوم (A1203)، ونتريد الألومنيوم (AlN)، وأكسيد التيتانيوم (TiO2)، وأكسيد الزركون (ZrOx)، وثاني أكسيد السيليكون (SiO2).